Titanmål spelar en viktig roll i den högteknologiska sektorn, särskilt i tunna filmavlagringsprocesser. Detta material används huvudsakligen av Magnetron Sputting eller Physical Vapor Deposition (PVD) -teknologi för att avsätta en tunn film på ett underlag med en specifik funktionell eller dekorativ effekt. Titanmål är gjorda av rent titan eller dess legeringar med en specifik form och fin yta för fysisk förångning eller sputteringsprocesser.
Det finns två huvudsakliga beredningsmetoder för titanmål: smältgjutningsmetod och pulvermetallurgimetod. Smältgjutningsmetoden använder vakuumsmältningsteknologi för att smälta råttmaterial med hög renhet och sedan kasta den i ett göt tomt. Efter värmebehandling och rullning eller hammare smide behandlas götsblommen av ett maskinverktyg för att få ett titanmål. Denna metod är enkel och enkel, men den måste utföras under ett strikt vakuum eller skyddande atmosfär och kan ha problem som inre segregering och grov vävnad. Pulvermetallurgimetoden är en ny metod som möjliggör framställning av homogena och defektfria mål, trots utrustningens komplexitet och kostnad.
Tillämpnings- och prestandakraven för titanmål inkluderar renhet, mikrostruktur, svetsprestanda och dimensionell noggrannhet. Renhet är en av de viktigaste resultatindikatorerna för målet, eftersom det har en betydande inverkan på filmens egenskaper.
I praktiska tillämpningar realiseras titanmål huvudsakligen genom magnetron sputtering eller PVD -teknik. Magnetron sputtering använder ett magnetfält för att kontrollera riktningen för rörelse av partiklar i en gas för att bilda olika funktionella filmer på ett underlag. PVD -teknik är en avancerad beläggningsproduktionsteknologi, som också är lämplig för den sputterande beläggningsprocessen för titanmål. Dessa tekniker möjliggör bildning av filmer med specifika funktionella eller dekorativa effekter på ytan på objekt, tillgodoser behoven hos olika fält för materialegenskaper.
Titanmål används ofta inom området elektroniska produkter, såsom den sputtrande beläggningsprocessen för tillverkning av mobiltelefoner, datorer och annan skärm för elektronisk utrustning.
Vid halvledartillverkning används ofta titan och dess föreningar (såsom titannitrid och titanoxid) vid tillverkning av gränssnittsskikt, flödesfilmer, barriärlager etc. i halvledarutrustning och används huvudsakligen som metallsputning i skivtillverkning, ofta med PVD -process för beläggningar.
Dessutom används titanmål i stor utsträckning inom området dekorativa beläggningar, såsom glasdekorativa beläggningar och hjuldekorationsbeläggningar, samt i smycken, klockor, glasögonramar, knivar, heminredning och andra fält för att tillverka dekorativa beläggningar.
Utvecklingsutsikterna för titanmål är mycket bred. Med den kontinuerliga tillväxten av den globala och kinesiska Titanium -målmarknaden, innovativ tillverkningsteknik, miljöskydd och hållbarhet, kommer utvecklingen av trådlös kommunikation och ny energi, tillämpningen av läkemedels- och medicinska industrier, samt intelligens och digitalisering alla att främja framstegen i titanindustrin. Med utvecklingen av teknik, såsom pulvermetallurgi, 3D -utskrift och annan ny teknik, kommer produktions- och bearbetningseffektiviteten för titanmål att förbättras ytterligare och deras mikrostruktur och egenskaper kommer att förbättras.
